[发明专利]一种半导体器件及其制备方法和包含其的电子装置在审

专利信息
申请号: 201810822268.1 申请日: 2018-07-25
公开(公告)号: CN109052309A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 吴冬冬 申请(专利权)人: 七色堇电子科技(上海)有限公司
主分类号: B81B7/02 分类号: B81B7/02;B81C1/00
代理公司: 上海知义律师事务所 31304 代理人: 杨楠
地址: 201400 上海市奉贤区*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种半导体器件,制备在衬底上,包括:振膜结构、背极板结构和背腔,其特征在于:所述振膜结构包含:中间振膜和外围振膜,以及由所述中间振膜和所述外围振膜组成的细缝;所述中间振膜由若干离散锚点固定在所述衬底上,所述外围振膜由一薄膜圈固定在所述衬底上。这种将振膜相对密封的结构设计,其能提升器件低频性能。本发明还公开一种半导体器件的制备方法,和包括半导体器件的电子装置。
搜索关键词: 半导体器件 振膜 中间振膜 衬底 制备 电子装置 振膜结构 外围 低频性能 提升器件 相对密封 薄膜圈 背极板 背腔 锚点 细缝
【主权项】:
1.一种半导体器件,制备在衬底上,包括:振膜结构、背极板结构和背腔,其特征在于:所述振膜结构包含:中间振膜和外围振膜,以及由所述中间振膜和所述外围振膜组成的细缝;所述中间振膜由若干离散锚点固定在所述衬底上,所述外围振膜由一薄膜圈固定在所述衬底上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于七色堇电子科技(上海)有限公司,未经七色堇电子科技(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810822268.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top