[发明专利]基板处理装置在审
| 申请号： | 201810823768.7 | 申请日： | 2018-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN109300762A | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 任圣淳;田容百;梁斗豪;曹奎泰;赵栽训;金智洙 | 申请（专利权）人： | 圆益IPS股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国京畿道平*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及用于控制基板上的等离子体环境的基板处理装置。基板处理装置包括：工艺腔室，在内部限定处理空间；气体喷射部，设置在所述工艺腔室，并且向所述处理空间供应工艺气体；静电吸盘，在所述工艺腔室与所述气体喷射部相互面对面设置，并包括静电电极，用于在安装于所述工艺腔室上部的基板施加静电力；等离子体电源供应部，包括至少一个RF电源，以对所述气体喷射部施加至少一个RF电源，进而在所述工艺腔室内部形成等离子体环境；静电力电源供应部，包括DC电源，进而对所述静电电极供应DC电力；静电吸盘电流控制电路部，为了控制所述气体喷射部及所述静电吸盘之间的等离子体环境，在所述静电电极与所述静电力电源供应部并联连接。 | ||
| 搜索关键词： | 气体喷射部 工艺腔室 等离子体环境 基板处理装置 静电电极 静电吸盘 静电力 电源供应部 处理空间 施加 等离子体电源 电流控制电路 供应工艺气体 面对面设置 并联连接 控制基板 工艺腔 供应部 室内部 基板 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：工艺腔室，在内部限定处理空间；气体喷射部，设置在所述工艺腔室，并且向所述处理空间供应工艺气体；静电吸盘，在所述工艺腔室与所述气体喷射部相互面对面设置，并且包括静电电极，用于在安装于所述工艺腔室上部的基板施加静电力；等离子体电源供应部，包括至少一个RF电源，以对所述气体喷射部施加至少一个RF电源，进而在所述工艺腔室内部形成等离子体环境；阻抗匹配部，为了所述至少一个RF电源与所述工艺腔室的阻抗匹配，连接于所述等离子体电源供应部以及所述气体喷射部之间；静电力电源供应部，包括DC电源，进而对所述静电电极供应DC电力；静电吸盘电流控制电路部，为了控制所述气体喷射部以及所述静电吸盘之间的等离子体环境，在所述静电电极与所述静电力电源供应部并联连接，并且使至少一个RF电流通过，并且断绝从所述静电力电源供应部引入的DC电流，所述RF电流通过所述至少一个RF电源生成并通过所述静电电极流动。
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