[发明专利]二极管器件及其制造方法、二极管装置有效

专利信息
申请号: 201810834224.0 申请日: 2018-07-26
公开(公告)号: CN108987601B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 常帅;钟海政;韩登宝 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56;H01L51/42
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 姜春咸;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种二极管器件,所述二极管器件包括层叠设置的第一电极、空穴传输层、发光功能层、电子传输层和第二电极,所述发光功能层包括至少一个发光功能子层,每个所述发光功能子层都包括层叠设置的光探测层和电致发光层,所述光探测层与所述电致发光层的能级势垒之差不超过1.5eV,制造所述光探测层的材料包括铜铟硫体系化合物制造的量子点材料或铜铟硫体系化合物制造的纳米晶材料;制造所述电致发光层的材料包括油溶性量子点材料。本发明还提供了一种二极管器件的制造方法以及一种二极管装置,所述二极管器件兼具电致发光性能和光电响应性能,具有更高的材料普适性。
搜索关键词: 二极管 器件 及其 制造 方法 装置
【主权项】:
1.一种二极管器件,所述二极管器件包括层叠设置的第一电极、空穴传输层、发光功能层、电子传输层和第二电极,其特征在于,所述发光功能层包括至少一个发光功能子层,每个所述发光功能子层都包括层叠设置的光探测层和电致发光层,所述光探测层与所述电致发光层的能级势垒之差不超过1.5eV,制造所述光探测层的材料包括铜铟硫体系化合物制造的量子点材料或铜铟硫体系化合物制造的纳米晶材料;制造所述电致发光层的材料包括油溶性量子点材料。
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