[发明专利]基于介质超表面结构的窄带滤光片及其制作方法在审
| 申请号： | 201810838011.5 | 申请日： | 2018-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN109031493A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 夏金松;袁帅;曾成 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智;曹葆青 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于介质超表面的窄带滤光片，包括衬底、多层介质薄膜和在薄膜上制备的介质超表面。介质超表面为亚波长周期性结构，垂直入射的光束能够激发介质超表面内部光场的集群性相干振荡，并与入射光相互作用改变光的透射和反射特性。通过对于介质超表面结构单元和排布的设计，能够减小谐振的带宽，从而实现窄带滤波的特性。本发明还提供了制作方法，包括：在衬底上生长多层介质薄膜材料后，形成超表面图形结构的抗蚀掩模；将图形结构转移到顶层介质薄膜上；去掩模，清洗。本发明制作步骤简单且可与CMOS工艺兼容，能够同时实现窄带宽以及高消光比。与传统的多层膜窄带滤光片相比，降低了工艺成本，实现了更窄的带宽和更高的反射率。 | ||
| 搜索关键词： | 窄带滤光片 多层介质薄膜 衬底 带宽 制作 表面结构单元 图形结构转移 透射和反射 周期性结构 谐振 表面结构 表面图形 垂直入射 工艺成本 介质薄膜 抗蚀掩模 窄带滤波 传统的 多层膜 反射率 集群性 入射光 消光比 亚波长 窄带宽 顶层 相干 振荡 光场 减小 排布 掩模 制备 薄膜 清洗 兼容 生长 激发 | ||
【主权项】：
1.一种基于超表面结构的窄带滤光片，其特征在于，包括：衬底、位于所述衬底上的若干层介质薄膜以及位于所述介质薄膜上的介质超表面功能层；其中，所述介质超表面功能层的表面为具有亚波长周期性结构的超表面结构，所述超表面结构上制备有若干个拼接的微纳图形阵列，每个所述微纳图形阵列为多个相同的微纳图形周期排布构成。
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