[发明专利]一种低阈值表面等离子体纳米激光器有效
申请号: | 201810846449.8 | 申请日: | 2018-07-27 |
公开(公告)号: | CN109038218B | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
发明(设计)人: | 李芳;许立图;姚付强;刘亚辉 | 申请(专利权)人: | 武汉工程大学 |
主分类号: | H01S5/20 | 分类号: | H01S5/20;G02B5/00 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 唐万荣 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: |
本发明公开了一种低阈值表面等离子体纳米激光器,包括:增益介质纳米线、第一SiO |
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搜索关键词: | 一种 阈值 表面 等离子体 纳米 激光器 | ||
【主权项】:
1.一种低阈值表面等离子体纳米激光器,其特征在于,包括:增益介质纳米线(1)、第一SiO2层(2)、石墨烯纳米带(3)、第二SiO2层(4)、金属纳米线(5)以及空气槽(6),其中:石墨烯纳米带(3)包裹在金属纳米线(5)上;第一SiO2层(2)、空气槽(6)、第二SiO2层(4)均设置在石墨烯纳米带(3)上方,且第一SiO2层(2)和第二SiO2层(4)对称设置在空气槽(6)的两侧;增益介质纳米线(1)设置在第一SiO2层(2)和第二SiO2层(4)的上方,空气槽(6)将增益介质纳米线(1)和石墨烯纳米带(3)间隔开;空气槽(6)与两侧的第一SiO2层(2)、第二SiO2层(4)的连接处形成两条棱,增益介质纳米线(1)通过这两条棱分别与第一SiO2层(2)、第二SiO2层(4)相连。
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