[发明专利]一种大豆的种植方法

摘要

本发明公开了一种大豆的种植方法，属于大豆种植技术领域，包括以下步骤：（1）种子预处理；（2）浸种处理；（3）激光处理；（4）播种；（5）播种后管理。本发明提供了一种大豆的种植方法，方法科学合理，不仅提高了种子的发芽特性，改善种苗的营养吸收性，还通过提高种子中多种酶的活性，从根源上提高大豆的抗病虫害的能力，不存在安全隐患，有助于提高大豆的产量和品质，极具市场推广价值。

主权项

1.一种大豆的种植方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）种子预处理：将大豆种子置于冷等离子体种子处理机中进行处理，处理过程中，以氦气为保护气，处理机内的压力控制为21‑23Pa，处理的时间为42‑48s；（2）浸种处理：将步骤（2）中预处理之后的种子置于浸种液中进行浸泡，浸泡处理的时间2‑3d，浸泡的同时进行特定频率的声波处理；（3）激光处理：将步骤（2）中浸泡处理后的种子置于飞秒激光系统中进行处理，飞秒激光的中心波长为为610‑690nm，重复频率为1‑1.2kHz，处理的时间为13‑17s。（4）播种：将步骤（3）中得到的大豆种子播种到温室内，温室内的温度控制为24‑28℃；（5）播种后管理：等到步骤（4）中的大豆发芽，种苗高度长到3‑5cm时，每天给予蓝光照射，蓝光照射的时间为每天上午6:00‑7:00，每次照射2‑4min，直到大豆开花停止蓝光照射。