[发明专利]清洗掩膜版的方法以及装置有效
| 申请号： | 201810860307.7 | 申请日： | 2018-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN108611599B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 徐倩;丁渭渭;嵇凤丽 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;B08B3/08;C23G3/00;C23F13/20 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了清洗掩膜版的方法以及装置。其中，清洗掩膜版的方法包括：提供待清洗的掩膜版，所述待清洗的掩膜版包括掩膜版本体以及待清洗金属，所述待清洗金属形成在所述掩膜版本体的至少一部分表面上；在对所述掩膜版本体进行阴极保护的条件下，对所述待清洗的掩膜版进行清洗。发明人发现，该方法操作简单、方便，易于实现，清洗液的选择范围较广，清洗成本较低、效率较高，至少部分待清洗金属可以回收利用，节约了经济和时间成本。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 掩膜版 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
1.一种清洗掩膜版的方法，其特征在于，包括：提供待清洗的掩膜版，所述待清洗的掩膜版包括掩膜版本体以及待清洗金属，所述待清洗金属形成在所述掩膜版本体的至少一部分表面上；在对所述掩膜版本体进行阴极保护的条件下，对所述待清洗的掩膜版进行清洗。
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