[发明专利]掩膜版及其制作方法以及显示装置在审
| 申请号： | 201810860496.8 | 申请日： | 2018-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN109097727A | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 王慧娟;曲连杰;董学;徐婉娴;尤杨 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了掩膜版及其制作方法以及显示装置。其中，掩膜版的制作方法包括：在基板的一个表面上形成第一凸起部或者第一凹陷部，以便得到第一模板；利用第一模板制作得到金属模板，所述金属模板的一个表面上具有第二凸起部，所述第二凸起部的形状与所述第一凸起部的形状一致或者与所述第一凹陷部相匹配；利用所述金属模板制作得到有机层，所述有机层中含有通孔，所述通孔与所述第二凸起部相匹配；在所述有机层的一个表面上形成第一金属层。发明人发现，上述制作掩膜版的方法工艺简单、容易操作和控制，无需使用双面曝光工艺，制作成本较低。 | ||
| 搜索关键词： | 凸起部 掩膜版 制作 金属模板 有机层 显示装置 凹陷部 通孔 匹配 第一金属层 模板制作 双面曝光 形状一致 基板 发现 | ||
【主权项】：
1.一种制作掩膜版的方法，其特征在于，包括：在基板的一个表面上形成第一凸起部或者第一凹陷部，以便得到第一模板；利用第一模板制作得到金属模板，所述金属模板的一个表面上具有第二凸起部，所述第二凸起部的形状与所述第一凸起部的形状一致或者与所述第一凹陷部相匹配；利用所述金属模板制作得到有机层，所述有机层中含有通孔，所述通孔与所述第二凸起部相匹配；在所述有机层的一个表面上形成第一金属层。
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