[发明专利]具有快速响应和高瞬态电流的ESD器件在审

专利信息
申请号: 201810862220.3 申请日: 2018-08-01
公开(公告)号: CN109390332A 公开(公告)日: 2019-02-26
发明(设计)人: A·C·阿帕斯瓦米;J·P·迪萨罗 申请(专利权)人: 德克萨斯仪器股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵志刚;赵蓉民
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本申请公开具有对高瞬态电流快速响应的静电放电(ESD)器件(例如,300)。ESD器件包括短脉冲放电(SPD)路径和长脉冲放电(LPD)路径。SPD路径提供对ESD事件的鲁棒响应,并且SPD路径触发LPD路径的自偏置配置。有利地,SPD路径通过使短脉冲电流(诸如充电器件模型(CDM)电流)迅速放电来减少ESD电压过冲的风险,而LPD路径提供长脉冲电流(诸如人体模型(HBM)电流)的有效放电。在一个实施方式中,例如,SPD路径包括MOS晶体管(例如,322),并且LPD包括双极晶体管(例如,324),该双极晶体管具有耦接到MOS晶体管的源极(例如,344)的基极(例如,342)。
搜索关键词: 放电 双极晶体管 快速响应 路径提供 瞬态电流 长脉冲 充电器件模型 短脉冲电流 静电放电 人体模型 短脉冲 自偏置 触发 鲁棒 源极 响应 配置 申请
【主权项】:
1.一种器件,包括:衬底,所述衬底具有表面;第一n掺杂区,所述第一n掺杂区从所述表面延伸;第一p掺杂区,所述第一p掺杂区从所述表面延伸并与所述第一n掺杂区通过界面相接;第二p掺杂区,所述第二p掺杂区从所述表面延伸并定位在所述第一n掺杂区内;第二n掺杂区,所述第二n掺杂区从所述表面延伸并定位在所述第二p掺杂区内;以及第三n掺杂区,所述第三n掺杂区从所述表面延伸并定位在所述第一p掺杂区内。
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