[发明专利]具有快速响应和高瞬态电流的ESD器件在审
申请号: | 201810862220.3 | 申请日: | 2018-08-01 |
公开(公告)号: | CN109390332A | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | A·C·阿帕斯瓦米;J·P·迪萨罗 | 申请(专利权)人: | 德克萨斯仪器股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵志刚;赵蓉民 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本申请公开具有对高瞬态电流快速响应的静电放电(ESD)器件(例如,300)。ESD器件包括短脉冲放电(SPD)路径和长脉冲放电(LPD)路径。SPD路径提供对ESD事件的鲁棒响应,并且SPD路径触发LPD路径的自偏置配置。有利地,SPD路径通过使短脉冲电流(诸如充电器件模型(CDM)电流)迅速放电来减少ESD电压过冲的风险,而LPD路径提供长脉冲电流(诸如人体模型(HBM)电流)的有效放电。在一个实施方式中,例如,SPD路径包括MOS晶体管(例如,322),并且LPD包括双极晶体管(例如,324),该双极晶体管具有耦接到MOS晶体管的源极(例如,344)的基极(例如,342)。 | ||
搜索关键词: | 放电 双极晶体管 快速响应 路径提供 瞬态电流 长脉冲 充电器件模型 短脉冲电流 静电放电 人体模型 短脉冲 自偏置 触发 鲁棒 源极 响应 配置 申请 | ||
【主权项】:
1.一种器件,包括:衬底,所述衬底具有表面;第一n掺杂区,所述第一n掺杂区从所述表面延伸;第一p掺杂区,所述第一p掺杂区从所述表面延伸并与所述第一n掺杂区通过界面相接;第二p掺杂区,所述第二p掺杂区从所述表面延伸并定位在所述第一n掺杂区内;第二n掺杂区,所述第二n掺杂区从所述表面延伸并定位在所述第二p掺杂区内;以及第三n掺杂区,所述第三n掺杂区从所述表面延伸并定位在所述第一p掺杂区内。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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