[发明专利]有机膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201810863232.8 | 申请日： | 2018-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN109388021B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 橘诚一郎;长井洋子;郡大佑;荻原勤 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种可形成有机膜的有机膜形成用组合物，该有机膜能够通过使用不会对半导体装置基板和图案化工序中所必需的有机抗蚀剂下层膜造成损伤的剥离液、例如半导体制程中通常所使用的被称为SC1的含过氧化氢的氨水溶液，容易地与已因干蚀刻而改性的硅成分残渣一并湿式去除。所述有机膜形成用组合物包含高分子化合物与有机溶剂，该高分子化合物具有由下述通式(1)～(4)表示的重复单元中的任意1种以上，在该有机溶剂中，选自丙二醇酯、酮及内酯中的1种以上的合计占超过全部有机溶剂中的30wt％的量。[化学式1] |
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| 搜索关键词： | 有机 形成 组合 | ||
【主权项】：
1.一种有机膜形成用组合物，其特征在于，该有机膜形成用组合物包含高分子化合物与有机溶剂，该高分子化合物具有由下述通式(1)～(4)表示的重复单元中的任意1种以上，在该有机溶剂中，选自丙二醇酯、酮及内酯中的1种以上的合计占超过全部有机溶剂中的30wt％的量，[化学式1]![]()
式中，R1为碳原子数为1～19的烃基、卤素原子、烷氧基、羧基、磺基、甲氧羰基、羟苯基、或氨基，R2为氢原子或AL，AL为通过加热或酸的作用而产生酸性官能团的基团，R3为氢原子、呋喃基、或可具有氯原子或硝基的碳原子数为1～16的烃基；k1、k2及k3为1～2，l为1～3，m为0～3，n为0或1。
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