[发明专利]承载装置、工艺腔室和半导体处理设备

摘要

本发明公开了一种承载装置、工艺腔室和半导体处理设备。包括：静电卡盘以及环绕所述静电卡盘的周向侧壁设置的支撑环，所述静电卡盘和所述支撑环共同承载待加工件，还包括第一驱动组件，用于驱动支撑环移动至第一卸载位置，以使得待加工件与静电卡盘脱离；第二驱动组件，用于驱动待加工件移动至第二卸载位置，以使得待加工件与支撑环脱离。支撑环顶起待加工件时，其与待加工件之间为均匀的环状面接触，可以避免由于待加工件由于粘片等导致的受力不均现象，此外，在利用第二驱动组件顶起待加工件时，只需要克服待加工件本身的重量即可，从而不会发生待加工件偏移的现象。

主权项

1.一种承载装置，包括静电卡盘以及环绕所述静电卡盘的周向侧壁设置的支撑环，所述静电卡盘和所述支撑环共同承载待加工件，其特征在于，所述承载装置还包括：/n第一驱动组件，用于驱动所述支撑环移动至第一卸载位置，以使得所述待加工件与所述静电卡盘脱离；/n第二驱动组件，用于驱动所述待加工件移动至第二卸载位置，以使得所述待加工件与所述支撑环脱离。/n