[发明专利]一种利用水冷负载实现高能束流吸收的装置与方法有效

专利信息
申请号: 201810865420.4 申请日: 2018-08-01
公开(公告)号: CN109041398B 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 丁开忠;连欢;宋云涛;陈永华;李君君;吴昱城;蔡雅倩 申请(专利权)人: 合肥中科离子医学技术装备有限公司
主分类号: H05H7/00 分类号: H05H7/00;H05H13/00;H05K7/20
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 胡剑辉
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开一种利用水冷负载实现高能束流吸收的装置与方法,该装置包括包括水冷负载结构、负载支撑结构,水冷负载结构包括负载腔体、锥形外壳;负载腔体包括涡流平台、螺旋水冷槽、锥形真空负载腔、圆筒真空腔及真空法兰;负载支撑结构包括负载支撑架、支撑台桌、调节支撑架、固定支撑架及调高桌脚,负载支撑架可实现支撑高度调节、调平及角度调节;该方法通过水冷循环实现高能粒子轰击负载过程中产生热量的吸收。本发明解决了束流粒子的拦截与吸收问题,并通过水冷设计实现粒子拦截过程中的设备冷却,为降低建筑成本需求,也为工作人员的人身安全以及环境保护提供了保障。
搜索关键词: 一种 利用 水冷 负载 实现 高能 吸收 装置 方法
【主权项】:
1.一种利用水冷负载实现高能束流吸收的装置,其特征在于,包括水冷负载结构、负载支撑结构,所述水冷负载结构包括:负载腔体(9)、锥形外壳(3),锥形外壳(3)设于负载腔体(9)的外部;所述负载腔体(9)包括涡流平台(4)、螺旋水冷槽(5)、锥形真空负载腔(6)、圆筒真空腔(7)及真空法兰(8);所述螺旋水冷槽(5)为螺旋缠绕分布在负载腔体(9)锥面外侧的条带状凹槽;所述涡流平台(4)为位于负载腔体(9)外锥面顶端的圆形平台,其圆心处带有圆柱形孔洞,侧面与螺旋水冷槽(5)相接;所述锥形真空负载腔(6)和圆筒真空腔(7)设于负载腔体(9)的内侧,圆筒真空腔(7)的一端与锥形真空负载腔(6)相接,另一端与真空法兰(8)相接;锥形真空负载腔(6)的锥形侧面与螺旋水冷槽(5)的槽底面平行;所述锥形外壳(3)的顶端接有一个水冷入口(1),底端对称连接两个水冷出口(2),锥形外壳(3)的底端与负载腔体(9)拼接,锥形外壳(3)与负载腔体(9)之间的空腔为螺旋槽水冷腔;所述负载支撑结构包括负载支撑架(10)、支撑台桌(17)、调节支撑架(16)、固定支撑架(14)及调高桌脚(15);所述调节支撑架(16)、固定支撑架(14)前后平行固定在支撑台桌(17)上;所述调节支撑架(16)包括两个对称设置的斜面支撑板(11)和用于调节两个斜面支撑板(11)间距的调节螺栓(12)。
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