[发明专利]多带电粒子束描绘装置以及多带电粒子束描绘方法有效
| 申请号： | 201810869711.0 | 申请日： | 2018-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN109388032B | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 松本裕史 | 申请（专利权）人： | 纽富来科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘英华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供即使在多束描绘中存在缺陷束的情况下也能够抑制最大照射时间的增大的多带电粒子束描绘装置及方法。该装置具备：分配系数运算处理电路，使用能够识别缺陷束的缺陷束信息，按成为多带电粒子束的设计上的照射位置的多个设计栅格的每个设计栅格，对实际的照射位置与该设计栅格接近或者大致一致的除了缺陷束以外的3个以上的束，运算对该3个以上的束的各束的分配系数，该分配系数用于以分配后的各分配剂量的重心位置以及总和与该设计栅格位置以及对该设计栅格照射的预定的剂量一致的方式分配对该设计栅格照射的预定的剂量；及描绘机构，使用对各设计栅格照射的预定的剂量分别被分配给对应的3个以上的束的多带电粒子束，对样本描绘图案。 | ||
| 搜索关键词： | 带电 粒子束 描绘 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多带电粒子束描绘装置，具备：放射源，放射带电粒子束；成形孔径阵列基板，受到上述带电粒子束的照射，形成多带电粒子束；分配系数运算处理电路，使用能够识别缺陷束的缺陷束信息，按成为上述多带电粒子束的设计上的照射位置的多个设计栅格的每个设计栅格，对实际的照射位置与该设计栅格接近或者大致一致的除了上述缺陷束以外的3个以上的束，运算对上述3个以上的束的各束的分配系数，该分配系数用于以分配后的各分配剂量的重心位置以及总和与该设计栅格位置以及对该设计栅格照射的预定的剂量一致的方式分配对该设计栅格照射的预定的上述剂量；以及描绘机构，使用对各设计栅格照射的预定的上述剂量分别被分配给对应的上述3个以上的束的多带电粒子束，对样本描绘图案。
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