[发明专利]驰豫GeSn红外雪崩光电探测器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810870394.4 申请日: 2018-08-02
公开(公告)号: CN110797431B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 汪巍;方青;涂芝娟;曾友宏;蔡艳;王庆;王书晓;余明斌 申请(专利权)人: 上海新微技术研发中心有限公司
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/18;H01L31/028
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤;陈丽丽
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种驰豫GeSn红外雪崩光电探测器及其制造方法。所述驰豫GeSn红外雪崩光电探测器,包括衬底以及沿垂直于所述衬底的方向依次层叠于衬底上的电荷倍增结构、缓冲层和吸收层;所述电荷倍增结构采用Si材料构成;所述吸收层采用驰豫Ge1‑xSnx材料构成,其中,0x1;所述缓冲层采用Si1‑yGey材料构成,其中,0.2y0.8,且其缺陷密度大于预设值,以限制由所述Si材料与所述驰豫Ge1‑xSnx材料晶格失配引起的线位错传播。本发明有着大的光电流放大倍数和高的灵敏度,同时避免了厚的驰豫Ge缓冲层的生长,使得缺陷位错局限在缓冲层中,从而保证高质量的驰豫GeSn吸收层的生长。
搜索关键词: 驰豫 gesn 红外 雪崩 光电 探测器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种驰豫GeSn红外雪崩光电探测器,其特征在于,包括衬底以及沿垂直于所述衬底的方向依次层叠于衬底上的电荷倍增结构、缓冲层和吸收层;/n所述电荷倍增结构采用Si材料构成;/n所述吸收层采用驰豫Ge
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