[发明专利]一种基于PSD-LIR的粒子尺寸分布函数重建方法及设备有效
| 申请号： | 201810871439.X | 申请日： | 2018-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN109145252B | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 谢明亮 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G06F17/12 | 分类号： | G06F17/12;G06F17/16 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 尚威;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开了一种基于PSD‑LIR的粒子尺寸分布函数重建方法及设备，属于颗粒群尺度特征检测领域。根据粒子体积的矩量的定义取7个矩量M |
||
| 搜索关键词： | 一种 基于 psd lir 粒子 尺寸 分布 函数 重建 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种基于PSD‑LIR的粒子尺寸分布函数重建方法，其特征在于，根据粒子体积的矩量的定义![]()
取k＝0、1/3、2/3、1、4/3、5/3、2，得到7个矩量Mk，对应于分布函数上的7个点，加上分布函数两端的零点，共计9个点；基于该9个点，通过插值和最佳逼近法，反演出颗粒尺度的分布函数曲线；其中，v表示粒子的体积，x表示粒子的位置，t表示时间，n表示粒子的数密度；7个矩量Mk物理含义分别如下：零阶矩量M0：是在给定时间和地点内，粒子数浓度；1/3阶矩量M1/3：与粒子群的平均直径成比例；2/3阶矩量M2/3：与粒子的表面积成比例；1阶矩量M1：与粒子的总体积成比例；4/3阶矩量M4/3：与粒子沉降末速度成比例；5/3阶矩量M5/3：与粒子的质量通量成比例；2阶矩量M2：与粒子群的总散射光成比例。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学，未经华中科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810871439.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
