[发明专利]一种氮化硅涂层的制作方法在审
| 申请号： | 201810872092.0 | 申请日： | 2018-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN108911520A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 周慧敏;冷金标;龙昭钦 | 申请（专利权）人： | 晶科能源有限公司;浙江晶科能源有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00;C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 罗满 |
| 地址： | 334100 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种氮化硅涂层的制作方法，包括将微米级的氮化硅颗粒和纳米级的氮化硅颗粒混合在纯水中，加入表面活性剂和硅溶胶，形成混合物；将所述混合物搅拌均匀；将搅拌均匀之后的所述混合物喷涂在待制作涂层物体的表面；对所述混合物加热去除其中的水分，形成氮化硅涂层。上述方法制作的氮化硅涂层，其内部的纳米级的氮化硅颗粒与微米级的氮化硅颗粒相互配合从而颗粒间缝隙更小，使制作的氮化硅涂层致密度得到提高，可见这就避免了现有技术中只用微米级的氮化硅颗粒制作氮化硅涂层带来的致密度不高的问题，能够避免铸锭过程中杂质从坩埚透过氮化硅涂层中的间隙扩散进硅料中，避免粘埚现象的发生，提高产品品质，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化硅涂层 氮化硅颗粒 制作 混合物 微米级 纳米级 表面活性剂 混合物搅拌 产品品质 间隙扩散 涂层物体 铸锭过程 硅溶胶 硅料 喷涂 水中 坩埚 加热 去除 申请 配合 | ||
【主权项】：
1.一种氮化硅涂层的制作方法，其特征在于，包括：将微米级的氮化硅颗粒和纳米级的氮化硅颗粒混合在纯水中，加入表面活性剂和硅溶胶，形成混合物；将所述混合物搅拌均匀；将搅拌均匀之后的所述混合物喷涂在待制作涂层物体的表面；对所述混合物加热去除其中的水分，形成氮化硅涂层。
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