[发明专利]一种CMP复合沟槽抛光垫在审
| 申请号： | 201810875035.8 | 申请日： | 2018-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN108994723A | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 但文涛;张莉娟 | 申请（专利权）人： | 成都时代立夫科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 蒋秀清;李春芳 |
| 地址： | 610200 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种CMP复合沟槽抛光垫，包括抛光垫基材和设在抛光垫基材中间的旋转中心，还包括抛光垫基材上开有的第一沟槽、第二沟槽和第三沟槽，所述第一沟槽和第二沟槽首尾相连通构成花瓣仿生的复合沟槽。所述第一沟槽是由至少2条沿抛光垫基材的径向分布且以旋转中心为起点、以抛光垫基材的边缘为终点的半圆形曲线组成的正螺旋对数状沟槽。所述第二沟槽是由至少2条沿抛光垫基材的径向分布且以旋转中心为起点、以抛光垫基材的边缘为终点的反向半圆形曲线组成的负螺旋对数状沟槽。构成的花瓣仿生的复合沟槽，使抛光液运送分布均匀，提高对晶圆的抛光去除速率，延长抛光液的驻留时间及方便废抛光液排出，在工作时沟槽不会出现堵塞。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光垫基材 旋转中心 抛光液 复合 半圆形曲线 径向分布 抛光 花瓣 首尾相连 驻留 抛光垫 正螺旋 晶圆 排出 去除 堵塞 运送 | ||
【主权项】：
1.一种CMP复合沟槽抛光垫，包括抛光垫基材(1)和设在抛光垫基材(1)中间的旋转中心(101)，其特征在于，还包括抛光垫基材(1)上开有的第一沟槽(2)、第二沟槽(3)和第三沟槽(4)，所述第一沟槽(2)和第二沟槽(3)首尾相连通构成花瓣仿生的复合沟槽。
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