[发明专利]一种3D打印用准直均匀的光源系统及打印系统在审
| 申请号： | 201810876383.7 | 申请日： | 2018-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN108705774A | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 杨清 | 申请（专利权）人： | 上海梓域材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B29C64/129 | 分类号： | B29C64/129;B29C64/264;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 | 代理人： | 王金宝 |
| 地址： | 201100 上海市闵*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种3D打印用准直均匀的光源系统及3D打印系统，光源系统包括：能够发射光束的光源装置、用于改变光源所发射光束方向的反射装置，使得光束在掩膜上形成的光点能够动态扫描掩膜。本发明采用的是能量集中且准直度极高的激光作为光源，并采用逐点扫描的方式，激光光束扫描覆盖整个掩膜的图文显示区域，任何区域的能量均一致，而传统的光源系统随着图文显示区域以及离光源的距离增大，能量差异有数倍之大。 | ||
| 搜索关键词： | 光源系统 掩膜 光源 图文显示区域 打印系统 准直 打印 发射光束方向 动态扫描 发射光束 反射装置 光源装置 激光光束 距离增大 能量差异 能量集中 逐点扫描 传统的 准直度 光点 激光 扫描 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种3D打印用准直均匀的光源系统，其特征在于，包括：能够发射光束的光源装置、用于改变光源所发射光束方向的反射装置，使得光束在掩膜上形成的光点能够动态扫描掩膜。
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