[发明专利]一种干涉曝光简易立式基片台在审
| 申请号： | 201810876389.4 | 申请日： | 2018-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN108983558A | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 孙国斌;王玉瑾;张锦;弥谦;蒋世磊;马丽娜;党小刚 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于多光束干涉光刻曝光技术领域，具体涉及一种干涉曝光简易立式基片台。其价格低、体积小、重量轻、组合自由，能良好的固定和调整控制基片在多光束干涉光刻系统中完成曝光。本发明的技术方案包括底座，所述的底座上设置有六自由度组合移动台，六自由度组合移动台上设置有真空吸盘组件。 | ||
| 搜索关键词： | 多光束干涉 六自由度 组合移动 曝光 底座 简易 真空吸盘组件 调整控制 光刻曝光 光刻系统 台本发明 基片台 体积小 重量轻 干涉 自由 | ||
【主权项】：
1.一种干涉曝光简易立式基片台，其特征在于：包括底座（10），所述的底座（10）上设置有六自由度组合移动台（2），六自由度组合移动台（2）上设置有真空吸盘组件（1）。
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