[发明专利]基片处理方法、计算机存储介质和基片处理系统

摘要

本发明提供一种在该基片上层叠地形成多个图案的基片处理方法、计算机存储介质和基片处理系统。对于层叠在基片上的两层以上的图案的相关性，基于上层图案的EPE、下层图案的EPE和两层图案的套刻精度，来计算作为该两层图案间的错位量的IPFE。在计算出的IPFE超过规定的阈值(IPFE预测值)的情况下，修正规定处理中的处理条件，使得该IPFE小于规定的阈值。由此，在基片上层叠地形成多个图案时，能够使该多个图案适当化。

主权项

1.一种基片处理方法，其对基片进行多个规定处理，在该基片上层叠地形成多个图案，所述基片处理方法的特征在于，包括：计算步骤，基于层叠在基片上的两层图案中的上层图案的端部位置误差、下层图案的端部位置误差和该两层图案的套刻精度，计算作为该两层图案间的错位量的图案间错位量；和修正步骤，在所述图案间错位量超过规定的阈值的情况下，修正所述规定处理中的处理条件，使得该图案间错位量低于规定的阈值。