[发明专利]一种基板处理装置及利用此装置的直列式基板处理系统

摘要

本发明涉及在一个流程空间中可清除基板上的雾并将基板表面改质的基板处理装置及利用此装置的直列式基板处理系统，包括形成了用于处理基板的内部空间的腔室本体；传送基板的传送装置；在腔室本体内相邻于基板的传出口侧的第一区域，和设置在传送装置的上方的对所传送基板照射紫外线的紫外线照射装置；在腔室本体内相邻于基板的传入口侧的第二区域，和设置在传送装置的下方加热腔室本体内部空间的红外线加热装置；设置在紫外线照射装置的相反方向，用于反射紫外线照射装置所生成的热量、至少包含一个第一反射板的第一反射装置；及设置在红外线加热装置的相反方向，用于反射红外线加热装置所生成的热量、至少包含一个第二反射板的第二反射装置。

主权项

1.基板处理装置，包括：腔室本体，形成了用于处理基板的内部空间；传送装置，设置在所述腔室本体，传送所述基板；紫外线照射装置，设置在所述腔室本体内部空间中与所述基板所传出的传出口相邻的第一区域，且设置在与所述传送装置的上方相隔一定距离，对所传送的基板照射紫外线紫外线照射装置；红外线加热装置，设置在所述腔室本体内部空间中与所述基板所传入的传入口相邻的第二区域，并设置在所述传送装置的下方且相隔一定距离，加热所述腔室本体内部空间；第一反射装置，其装置以所述基板为基准、设置在所述紫外线照射装置的相反方向，用于反射所述紫外线照射装置所生成的热量，至少包含一个第一反射板；及第二反射装置，以所述基板为基准、设置在所述红外线加热装置的相反方向，用于反射所述红外线加热装置所生成的热量，至少包含一个第二反射板。