[发明专利]硅异质结太阳电池的铜合金电极的制备方法在审

专利信息
申请号: 201810879560.7 申请日: 2018-08-03
公开(公告)号: CN110797418A 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 赵晓霞;田宏波;王伟;王雪松;周永谋;王恩宇 申请(专利权)人: 国家电投集团科学技术研究院有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0745
代理公司: 11201 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 宋合成
地址: 102209 北京市昌平区未来科技城国*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提出了一种硅异质结太阳电池的铜合金电极的制备方法。该方法包括沉积形成介质薄膜层,在介质薄膜层开设电极窗口,以及在电极窗口中依次形成金属种子层、金属铜导电层和锡保护层,并热处理最终形成铜合金电极。该方法避免了昂贵的光刻胶的使用和光刻设备的投入,简化了铜合金电极的掩膜制备工艺,有利于硅异质结电池成本的降低;同时介质薄膜层与TCO薄膜相匹配,进一步降低了电池表面的光反射率,提高了电池光利用。
搜索关键词: 介质薄膜层 电极 铜合金 电极窗口 硅异质结太阳电池 金属种子层 热处理 电池表面 电池成本 光反射率 光刻设备 硅异质结 锡保护层 制备工艺 导电层 光刻胶 金属铜 掩膜 沉积 制备 匹配 电池
【主权项】:
1.一种硅异质结太阳电池的铜合金电极的制备方法,其特征在于,包括:/n(1)在第一透明导电氧化物层的上表面沉积形成第一介质薄膜层,在第二透明导电氧化物层的下表面沉积形成第二介质薄膜层;/n(2)通过激光刻蚀或者丝网印刷腐蚀性浆料在所述第一介质薄膜层开孔形成至少一个第一电极窗口,在所述第二介质薄膜层开孔形成至少一个第二电极窗口;/n(3)在所述第一电极窗口中形成第一金属种子层,在所述第二电极窗口中形成第二金属种子层;/n(4)在所述第一金属种子层的上表面依次形成第一金属铜层和第一金属锡层,在所述第二金属种子层的下表面依次形成第二金属铜层和第二金属锡层;/n(5)将步骤(4)所得样品进行热处理,以便制备获得第一铜合金电极和第二铜合金电极;/n其中,所述第一透明导电氧化物层形成在硅异质结结构的上表面,所述第二透明导电氧化物层形成在硅异质结结构的下表面。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国家电投集团科学技术研究院有限公司,未经国家电投集团科学技术研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810879560.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top