[发明专利]一种提高后仿真结果准确性的方法及系统有效
| 申请号： | 201810882624.9 | 申请日： | 2018-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN109145414B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 曹云 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/33 | 分类号： | G06F30/33;G06F30/398 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高后仿真结果准确性的方法及系统，所述方法包括如下步骤：步骤S1，提取出版图中MIM CAP图形的周长与面积，将MIM CAP图形作为矩形利用周长与面积建立方程，根据所建立的方程计算该MIM CAP图形的长与宽；步骤S2，将步骤S1计算获得的宽长值代入电容计算公式，得到与版图上实际多边形的电容值更接近的电容值，通过本发明，可提高后仿真结果的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 仿真 结果 准确性 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种提高后仿真结果准确性的方法，包括如下步骤：步骤S1，提取出版图中MIM CAP图形的周长与面积，将MIM CAP图形作为矩形利用周长与面积建立方程，根据所建立的方程计算该MIM CAP图形的长与宽；步骤S2，将步骤S1计算获得的宽长值代入电容计算公式，得到与版图上实际多边形的电容值更接近的电容值。
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