[发明专利]结构参数计算方法和结构参数计算装置有效
| 申请号： | 201810884026.5 | 申请日： | 2018-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN109061877B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 潘峰;王健;马平;卫耀伟;张飞;张清华;刘民才 | 申请（专利权）人： | 成都精密光学工程研究中心 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 王文红 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供的结构参数计算方法和结构参数计算装置，涉及光学薄膜制造技术领域。所述结构参数计算方法包括：获取需要制作的激光反射膜的反射率、残余应力以及电场强度，其中，所述激光反射膜包括内部周期结构和外部匹配结构，所述内部周期结构包括多层子结构，每一层子结构包括第一高折射层和第一低折射层，所述外部匹配结构包括第二高折射层和第二低折射层；根据所述反射率计算得到所述多层子结构的层数，根据所述残余应力计算得到所述第一高折射层和所述第一低折射层的厚度比，并根据所述电场强度计算得到所述第二高折射层的厚度和所述第二低折射层的厚度。通过上述方法，可以改善通过现有技术设计制造的激光反射膜存在综合性能较差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 参数 计算方法 计算 装置 | ||
【主权项】：
1.一种结构参数计算方法，用于对激光反射膜的结构参数进行计算，其特征在于，所述方法包括：获取需要制作的激光反射膜的反射率、残余应力以及电场强度，其中，所述激光反射膜包括内部周期结构和外部匹配结构，所述内部周期结构包括多层子结构，每一层子结构包括第一高折射层和第一低折射层，所述外部匹配结构包括第二高折射层和第二低折射层；根据所述反射率计算得到所述多层子结构的层数，根据所述残余应力计算得到所述第一高折射层和所述第一低折射层的厚度比，并根据所述电场强度计算得到所述第二高折射层的厚度和所述第二低折射层的厚度。
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