[发明专利]一种薄吸收膜的光学常数与厚度的测量装置及方法有效
| 申请号： | 201810885777.9 | 申请日： | 2018-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN109141259B | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 江浩;刘佳敏;刘世元;谷洪刚;石雅婷;张传维;陈修国 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01N21/01;G01N21/552 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 孔娜;曹葆青 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于光学测量相关技术领域，其公开了薄吸收膜的光学常数与厚度的测量装置及方法，该测量装置包括集成于一体的椭偏参数测量模块与反射率测量模块，所述椭偏参数测量模块与所述反射率测量模块相对设置，且所述椭偏参数测量模块得到的探测光束与所述反射率测量模块得到的探测光束辐照于待测样品的相同位置，从而实现了待测样品表面同一点的椭偏参数与反射率的同时、原位及在线测量。本发明实现了薄吸收膜光学常数与厚度的有效表征，同时实现了非透明基底上薄吸收膜的光学常数与厚度的原位表征，且结构简单，易于实施。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 吸收 光学 常数 厚度 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种薄吸收膜的光学常数与厚度的测量装置，其特征在于：所述测量装置包括集成于一体的椭偏参数测量模块与反射率测量模块，所述椭偏参数测量模块与所述反射率测量模块相对设置，且所述椭偏参数测量模块得到的探测光束与所述反射率测量模块得到的探测光束辐照于待测样品的相同位置，从而实现了待测样品表面同一点的椭偏参数与反射率的同时、原位及在线测量；所述椭偏参数测量模块测量所述待测样品椭偏参数的过程与所述反射率测量模块测量所述待测样品反射率的过程是同步的，从而获取所述待测样品原位的、实时的椭偏参数与反射率。
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