[发明专利]性能改进的氮化锌系复合薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201810888517.7 | 申请日： | 2018-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN108914078B | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 康丽纳 | 申请（专利权）人： | 泉州市康馨化工科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/58 |
| 代理公司： | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人： | 张玺 |
| 地址： | 362200 福建省泉*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种性能改进的氮化锌系复合薄膜的制备方法，包括如下步骤：准备表面清洁的单晶硅基片；在单晶硅基片表面沉积第一ZnO层；在第一ZnO层表面沉积金属Zn层；在金属Zn层表面沉积第二ZnO层；在第二ZnO层表面沉积第一AZO层；在第一AZO层表面沉积第二AZO层；在第二AZO层表面第一Zn |
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| 搜索关键词： | 性能 改进 氮化 复合 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种性能改进的氮化锌系复合薄膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括如下步骤：准备表面清洁的单晶硅基片；在所述单晶硅基片表面以第一磁控溅射工艺参数沉积第一ZnO层，其中，所述第一ZnO层的厚度为10‑15nm；在所述第一ZnO层表面以第二磁控溅射工艺参数沉积金属Zn层，其中，所述金属Zn层的厚度为5‑10nm；在所述金属Zn层表面以第三磁控溅射工艺参数沉积第二ZnO层，其中，所述第二ZnO层的厚度为20‑30nm；在所述第二ZnO层表面以第四磁控溅射工艺参数沉积第一AZO层，其中，所述第一AZO层的厚度为25‑40nm；在所述第一AZO层表面以第五磁控溅射工艺参数沉积第二AZO层，其中，所述第二AZO层的厚度为15‑30nm；在所述第二AZO层表面以第六磁控溅射工艺参数沉积第一Zn3N2层，其中，所述第一Zn3N2层的厚度为10‑20nm；在所述第一Zn3N2层表面以第七磁控溅射工艺参数沉积第二Zn3N2层，得到性能改进的氮化锌系复合薄膜，其中，所述第二Zn3N2层的厚度为15‑30nm；以及对所述性能改进的氮化锌系复合薄膜进行退火处理。
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