[发明专利]SIMT 顶点和像素染色基本程序生产方法在审

专利信息
申请号: 201810889054.6 申请日: 2018-08-07
公开(公告)号: CN109118572A 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 田耀仁 申请(专利权)人: 芯视图(常州)微电子有限公司
主分类号: G06T15/87 分类号: G06T15/87
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 213000 江苏省常州市钟楼区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种SIMT顶点和像素染色基本程序生产方法,它涉及顶点染色和像素染色技术领域。包括顶点染色和像素染色两部分,所述的顶点染色部分主要处理顶点的视图变换、光照处理、数据下发;所述的像素染色包含对纹理贴图、雾的处理,以及染色后结果输出。本发明能够实现顶点染色和像素染色的汇编程序,使得后期维护开发人员以及测试人员了解SIMT顶点和像素处理过程。
搜索关键词: 染色 像素 基本程序 染色技术领域 光照处理 汇编程序 视图变换 数据下发 纹理贴图 像素处理 测试 生产 输出 开发 维护
【主权项】:
1.SIMT 顶点和像素染色基本程序生产方法,其特征在于,包括顶点染色和像素染色两部分,所述的顶点染色部分主要处理顶点的视图变换、光照处理、数据下发;包括以下流程:(1)、视图变换:视图变换具体过程是获取顶点坐标(x,y,z,w),然后依次和视图矩阵、投影矩阵相乘获得新的坐标信息(x2,y2,z2,w2); (2)、光照处理:计算光照对顶点颜色的影响,如无影响则使用顶点本身属性颜色值,使能光照之后,光照计算公式如下:顶点颜色 = 顶点处的材料发射光 + 全局环境光 + 经过适当衰减的来自所有光源的环境、散射和镜面光成分;8个光源都会对顶点的颜色做贡献,这些叠加在一起.每个光源所做出的贡献计算公式如下:每个光源的贡献 = 衰减因子 × 聚光灯效果 ×(环境光成分 + 散射光成分 + 镜面成分)上述计算结果加起来,就是当前顶点光照之后颜色值;(3)、顶点结果输出:按照染色后的顶点数据组织方式,进行数据写入;至少包含边界边、顶点的坐标和顶点的颜色。
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