[发明专利]量子点膜及其制备方法、背光模组及显示装置有效
| 申请号： | 201810890335.3 | 申请日： | 2018-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN109061941B | 公开（公告）日： | 2022-01-18 |
| 发明（设计）人： | 尤杨;赵合彬;杨瑞智;王瑞勇;吴俊;吕振华 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种量子点膜及其制备方法、背光模组及显示装置，属于显示技术领域。所述量子点膜包括：第一阻隔层，设置在第一阻隔层上的量子点结构和隔离结构，以及设置在量子点结构和隔离结构上的第二阻隔层；其中，隔离结构包围至少一部分量子点结构。本发明解决了环境中的水分和氧气进入量子点膜后影响量子点膜的正常使用的问题。本发明用于制造量子点膜。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 及其 制备 方法 背光 模组 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种量子点膜，其特征在于，所述量子点膜包括：第一阻隔层，设置在所述第一阻隔层上的量子点结构和隔离结构，以及设置在所述量子点结构和所述隔离结构上的第二阻隔层；其中，所述隔离结构包围至少一部分所述量子点结构。
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