[发明专利]显示基板的制造方法、显示基板、显示装置有效
| 申请号： | 201810890631.3 | 申请日： | 2018-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN109061914B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 王骁;马禹;闫岩 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G02F1/1362;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种显示基板的制造方法、显示基板和显示装置，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的ADS显示模式的显示基板中，像素电极与栅极短路难于在制造过程中检出的问题。本发明的制造方法包括：利用构图工艺在基底上形成像素电极，以及利用构图工艺在基底上形成晶体管的栅极和与栅极连接的栅线；形成钝化层，在钝化层上制作测试过孔，测试过孔连通至像素电极；形成公共电极材料层，公共电极材料层在测试过孔处与像素电极连接；对公共电极材料层和栅线进行开路‑短路测试，如果公共电极材料层与任意栅线短路，则判定与该栅线相连的晶体管中至少有一个晶体管的栅极与对应的像素电极发生短路不良。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种显示基板的制造方法，该显示基板包括阵列式分布的多个子像素，每个子像素中包括晶体管、像素电极和公共电极，其特征在于，该制造方法包括：利用构图工艺在基底上形成像素电极，以及利用构图工艺在基底上形成所述晶体管的栅极和与所述栅极连接的栅线；形成钝化层，在所述钝化层上制作测试过孔，所述测试过孔连通至所述像素电极；形成公共电极材料层，所述公共电极材料层在所述测试过孔处与所述像素电极连接；对所述公共电极材料层和所述栅线进行开路‑短路测试，如果所述公共电极材料层与任意栅线短路，则判定与该栅线相连的晶体管中至少有一个晶体管的栅极与对应的像素电极发生短路不良。
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