[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质

摘要

本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，用于防止在使基板的下表面干燥时处于干燥区域的外侧的液膜碎裂而产生液滴，并且防止微粒附着于卡盘构件及其周边的基板的下表面。基板处理方法包括：液处理工序，一边使基板旋转一边对基板的下表面供给处理液来进行液处理；以及干燥工序，在该液处理工序之后，一边对基板的下表面供给非活性气体一边进行基板的干燥处理。在干燥工序中，在开始进行干燥处理后且在基板的下表面中央部存在液膜的状态下(时间点T2～T3)，以第一供给流量(FR2)供给非活性气体，在基板的下表面中央部不再存在液膜后(时间点T3～T4)，以比第一供给流量少的第二供给流量(FR3)供给非活性气体。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：基板保持构件，其保持基板的周缘部；旋转部，其具有设置有所述基板保持构件的板，通过使所述板旋转来使所述基板旋转；流体供给部，其配置于所述旋转部的中央，对被所述基板保持构件保持的所述基板的下表面供给处理液和非活性气体；以及控制部，其进行以下控制：一边使所述基板旋转一边对所述基板的下表面供给处理液来进行液处理，在进行所述液处理之后，一边对所述基板的下表面供给所述非活性气体一边进行所述基板的干燥处理，其中，所述控制部进行以下控制：在开始进行所述干燥处理后且在所述基板的下表面中央部存在液膜的状态下，以第一供给流量供给所述非活性气体，在所述下表面中央部不再存在液膜之后，以比所述第一供给流量少的第二供给流量供给所述非活性气体。