[发明专利]氮掺杂氧化钨异质结太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810895723.0 申请日: 2018-08-08
公开(公告)号: CN109065659A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 黄仕华;张美影;池丹;陆肖励 申请(专利权)人: 浙江师范大学
主分类号: H01L31/074 分类号: H01L31/074;H01L31/0336;H01L31/18
代理公司: 杭州之江专利事务所(普通合伙) 33216 代理人: 朱枫
地址: 321004 *** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种氮掺杂氧化钨异质结太阳能电池及其制备方法,对单晶硅片进行表面化学处理,清除表面污染杂质;利用硝酸氧化法在硅片前后表面各生长一层超薄SiO2层;在硅片正面的SiO2薄膜上面,利用反应磁控溅射的方法制备氮掺杂的氧化钨薄膜,然后再溅射ITO导电薄膜;在硅片背面的SiO2薄膜上面,利用热蒸镀的方法生长LiF;生长前后Ag电极。本发明利用反应磁控溅射方法生长氮掺杂的氧化钨薄膜,作为晶体硅异质结太阳能电池的空穴传输层,可以同时获得高电导率的氧化钨以及较大的氧化钨/单晶硅能带弯曲度。
搜索关键词: 氮掺杂 氧化钨 异质结太阳能电池 制备 生长 反应磁控溅射 氧化钨薄膜 硅片 表面化学处理 单晶硅 超薄SiO2层 空穴传输层 硝酸氧化法 表面污染 单晶硅片 高电导率 硅片正面 晶体硅 热蒸镀 弯曲度 电极 溅射
【主权项】:
1.氮掺杂氧化钨异质结太阳能电池,其特征在于:具有如下的结构:Ag/ITO/N‑WOx/SiO2/n‑c‑Si/SiO2/LiF/Ag,其中Ag为金属银,ITO为掺锡的氧化铟透明导电薄膜,N‑WOx为氮掺杂的氧化钨,x=2.5~3.0,SiO2为二氧化硅,n‑c‑Si为n型单晶硅衬底,LiF为氟化锂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江师范大学,未经浙江师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810895723.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top