[发明专利]氮掺杂氧化钨异质结太阳能电池及其制备方法在审
申请号: | 201810895723.0 | 申请日: | 2018-08-08 |
公开(公告)号: | CN109065659A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 黄仕华;张美影;池丹;陆肖励 | 申请(专利权)人: | 浙江师范大学 |
主分类号: | H01L31/074 | 分类号: | H01L31/074;H01L31/0336;H01L31/18 |
代理公司: | 杭州之江专利事务所(普通合伙) 33216 | 代理人: | 朱枫 |
地址: | 321004 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种氮掺杂氧化钨异质结太阳能电池及其制备方法,对单晶硅片进行表面化学处理,清除表面污染杂质;利用硝酸氧化法在硅片前后表面各生长一层超薄SiO2层;在硅片正面的SiO2薄膜上面,利用反应磁控溅射的方法制备氮掺杂的氧化钨薄膜,然后再溅射ITO导电薄膜;在硅片背面的SiO2薄膜上面,利用热蒸镀的方法生长LiF;生长前后Ag电极。本发明利用反应磁控溅射方法生长氮掺杂的氧化钨薄膜,作为晶体硅异质结太阳能电池的空穴传输层,可以同时获得高电导率的氧化钨以及较大的氧化钨/单晶硅能带弯曲度。 | ||
搜索关键词: | 氮掺杂 氧化钨 异质结太阳能电池 制备 生长 反应磁控溅射 氧化钨薄膜 硅片 表面化学处理 单晶硅 超薄SiO2层 空穴传输层 硝酸氧化法 表面污染 单晶硅片 高电导率 硅片正面 晶体硅 热蒸镀 弯曲度 电极 溅射 | ||
【主权项】:
1.氮掺杂氧化钨异质结太阳能电池,其特征在于:具有如下的结构:Ag/ITO/N‑WOx/SiO2/n‑c‑Si/SiO2/LiF/Ag,其中Ag为金属银,ITO为掺锡的氧化铟透明导电薄膜,N‑WOx为氮掺杂的氧化钨,x=2.5~3.0,SiO2为二氧化硅,n‑c‑Si为n型单晶硅衬底,LiF为氟化锂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江师范大学,未经浙江师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810895723.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的