[发明专利]流体供应装置

摘要

一种流体供应装置用以处理一基板，基板包括一非平面区域。流体供应装置包括一流体供应单元和一气体供应单元。流体供应单元用以朝基板输出流体。气体供应单元位于流体供应单元的外侧，气体供应单元包括一气体输出部，气体输出部用以朝基板输出一第一气体。当流体供应单元朝基板输出流体时，会在非平面区域上形成一湿式工艺；当气体输出部朝基板输出第一气体，且第一气体沿着相对基板的一水平方向流动时，第一气体会在非平面区域上形成一移除工艺，以移除流体。

主权项

1.一种流体供应装置，用以处理一基板，其特征在于，该基板包括一非平面区域，该流体供应装置包括：一流体供应单元，用以朝该基板输出一流体；以及一气体供应单元，位于该流体供应单元的外侧，该气体供应单元包括一气体输出部，该气体输出部用以朝该基板输出一第一气体；其中当该流体供应单元朝该基板输出该流体时，会在该非平面区域上形成一湿式工艺；当该气体输出部朝该基板输出该第一气体，且该第一气体沿着相对该基板的一水平方向流动时，该第一气体会在该非平面区域上形成一移除工艺，以移除该流体。