[发明专利]光谱仪及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201810897371.2 申请日: 2018-08-08
公开(公告)号: CN110823845B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 孟宪芹;董学;王维;谭纪风;孟宪东;陈小川;高健;梁蓬霞;王方舟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;G01N21/01
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云;王小会
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 提供一种光谱仪及其制作方法。光谱仪包括:第一衬底基板;第二衬底基板,与所述第一衬底基板相对设置;检测通道,位于所述第一衬底基板和所述第二衬底基板之间;量子点发光层,位于所述第一衬底基板的靠近所述第二衬底基板的一侧,包括多个量子点发光单元;黑矩阵,位于所述第一衬底基板的靠近所述第二衬底基板的一侧,被配置为分隔所述多个量子点发光单元;以及传感器层,包括多个传感器,所述多个传感器与所述多个量子点发光单元一一对应。该光谱仪可实现微型化,黑矩阵可起到隔离不同量子点发光单元的作用,可避免相邻的量子点发光单元发出的光影响照射到传感器的光,从而,可避免影响检测结果,有利于提高检测准确性。
搜索关键词: 光谱仪 及其 制作方法
【主权项】:
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