[发明专利]一种掺硼金刚石修饰的衰减全反射晶片、其制备及应用有效
| 申请号： | 201810906071.6 | 申请日： | 2018-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN109060900B | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 胡敬平;陈思静;帕乌刘斯·波贝丁斯卡斯;约翰·福德;肯·哈嫩;武龙胜;侯慧杰;刘冰川;杨家宽 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01N27/26 | 分类号： | G01N27/26;G01N21/35;C23C16/27 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 曹葆青;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本发明属于红外光谱技术领域，更具体地，涉及一种掺硼金刚石修饰的衰减全反射晶片、其制备和应用。其以衰减全反射晶片为基底，在所述基底的表面设置有掺硼金刚石薄膜层，所述掺硼金刚石薄膜层的电阻率为10 |
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| 搜索关键词： | 一种 金刚石 修饰 衰减 全反射 晶片 制备 应用 | ||
【主权项】：
1.一种掺硼金刚石修饰的衰减全反射晶片，其特征在于，其以衰减全反射晶片为基底，在所述基底的表面设置有掺硼金刚石薄膜层，所述掺硼金刚石薄膜层的电阻率为10‑3～1Ω·cm；红外光以一定角度入射至所述衰减全反射晶片内表面，该内表面与所述掺硼金刚石薄膜层相邻，所述红外光在该内表面上发生折射和反射，折射后的红外光进入所述掺硼金刚石薄膜层，且在所述掺硼金刚石薄膜层内发生全发射。
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