[发明专利]工艺文件生成方法、工艺控制系统、控制装置和存储介质在审
申请号: | 201810907584.9 | 申请日: | 2018-08-10 |
公开(公告)号: | CN109065671A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 杨斌 | 申请(专利权)人: | 君泰创新(北京)科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 王康;龙洪 |
地址: | 100176 北京市大兴区亦*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请公开了一种工艺文件生成方法、工艺控制系统、控制装置、存储介质,包括:非基准工艺设备的控制装置获取一基准工艺设备的基准工艺文件,基准工艺文件包括基准工艺设备的配置参数;非基准工艺设备的控制装置根据非基准工艺设备的工艺配置和基准工艺文件中的配置参数确定非基准工艺设备的配置参数,生成非基准工艺设备的工艺文件,非基准工艺设备的工艺配置包括非基准工艺设备的配置参数与基准工艺设备的配置参数之间的差异信息,非基准工艺设备的工艺文件包括非基准工艺设备的配置参数。本申请通过各工艺设备与基准工艺设备的配置参数的差异信息来自动生成所述非基准工艺设备的工艺文件,提高了各工艺设备生成工艺文件的效率及可靠性。 | ||
搜索关键词: | 工艺设备 非基准 工艺文件 配置参数 控制装置 工艺控制系统 差异信息 存储介质 工艺配置 自动生成 申请 | ||
【主权项】:
1.一种工艺文件生成方法,包括:非基准工艺设备的控制装置获取一基准工艺设备的基准工艺文件,所述基准工艺文件包括所述基准工艺设备的配置参数;所述非基准工艺设备的控制装置根据所述非基准工艺设备的工艺配置和所述基准工艺文件中的配置参数确定所述非基准工艺设备的配置参数,生成所述非基准工艺设备的工艺文件,所述非基准工艺设备的工艺配置包括所述非基准工艺设备的配置参数与所述基准工艺设备的配置参数之间的差异信息,所述非基准工艺设备的工艺文件包括所述非基准工艺设备的配置参数。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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