[发明专利]一种氮化物半导体垂直腔面发射激光器在审
| 申请号： | 201810909141.3 | 申请日： | 2018-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN108923255A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 张保平;任伯聪;陈衍晖;应磊莹;郑志威 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183;H01S5/187;C23C16/40;C23C14/08 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005 *** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种氮化物半导体垂直腔面发射激光器，涉及半导体激光器。采用垂直内腔接触结构，从下到上依次设有支撑基板、下分布布拉格反射镜、下电极、透明电流扩展层、电流限制层、外延层、上电极和上分布布拉格反射镜；所述电流限制层使用氧化铝材料，氧化铝材料的分子式为Al2O3。外延层为氮化镓、氮化铟、氮化铝等组成的混合物外延层。上电极和下电极采用Ni/Au、Cr/Au或Ti/Au。氧化铝Al2O3的制备方法为物理镀膜或化学镀膜。制作方法多样简单，改善了原有电流限制层在垂直结构上对热传导的阻碍效果，降低了热效应对激光器的不良影响，增强散热性，提高器件的稳定性并延长其寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 电流限制层 外延层 垂直腔面发射激光器 分布布拉格反射镜 氮化物半导体 氧化铝材料 电极 下电极 热效应 透明电流扩展层 半导体激光器 垂直结构 垂直内腔 化学镀膜 接触结构 物理镀膜 支撑基板 激光器 混合物 氮化铝 氮化铟 氮化镓 热传导 散热性 氧化铝 制备 阻碍 制作 | ||
【主权项】：
1.一种氮化物半导体垂直腔面发射激光器，其特征在于采用垂直内腔接触结构，从下到上依次设有支撑基板、下分布布拉格反射镜、下电极、透明电流扩展层、电流限制层、外延层、上电极和上分布布拉格反射镜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门大学，未经厦门大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810909141.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
