[发明专利]光刻设备的洁净度的检测方法以及反射式光掩模有效
| 申请号： | 201810915785.3 | 申请日： | 2018-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN110824851B | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 李宗彦;傅中其;陈立锐;郑博中;郭爵旗;郑介任 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/52 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张福根;冯志云 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光刻设备的洁净度的检测方法，包括：放置一反射式光掩模至一曝光腔内的一光掩模座上，且放置一晶片至曝光腔内的一晶片座上；通过反射式光掩模实施一曝光工艺至晶片上；将反射式光掩模由曝光腔移动至一光学检测机台；以及通过光学检测机台检测反射式光掩模上的污染物。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 洁净 检测 方法 以及 反射 式光掩模 | ||
【主权项】：
暂无信息
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