[发明专利]三维半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810918723.8 申请日: 2014-01-10
公开(公告)号: CN109192230A 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 朴镇泽;金森宏治;朴泳雨;李载悳 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11C5/02 分类号: G11C5/02;G11C7/02;G11C7/18;H01L27/11551;H01L27/11578;G11C7/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 根据发明构思的示例实施方式,一种三维半导体器件,包括:存储单元阵列,包括可以三维布置的存储单元,该存储单元阵列包括在平面图中的左侧和其对面的右侧、以及顶侧和其对面的底侧;至少一个字线解码器,邻近于存储单元阵列的左侧和右侧中的至少一个;页面缓冲器,邻近于存储单元阵列的底侧;和串选择线解码器,邻近于存储单元阵列的顶侧和底侧之一。
搜索关键词: 存储单元阵列 三维半导体器件 邻近 顶侧 解码器 页面缓冲器 字线解码器 串选择线 存储单元 发明构思 三维 制造
【主权项】:
1.一种三维半导体器件,包括:存储单元阵列,包括三维布置的存储单元,该存储单元阵列包括在平面图中的左侧和其对面的右侧、以及顶侧和其对面的底侧;至少一个字线解码器,邻近于所述存储单元阵列的所述左侧和右侧中的至少一个;页面缓冲器,邻近于所述存储单元阵列的所述底侧;和串选择线解码器,邻近于所述存储单元阵列的顶侧和底侧之一。
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