[发明专利]金属氧化物层形成方法和等离子体增强化学气相沉积装置

摘要

提供了一种金属氧化物层形成方法和等离子体增强化学气相沉积装置。所述方法包括在将有机金属化合物和氧化剂连续地注入到腔室中的同时，重复地引起等离子体关闭时间段和等离子体开启时间段。一个循环包括一个等离子体关闭时间段和一个等离子体开启时间段。在等离子体关闭时间段期间，在基底上形成包括具有多个原子层的有机金属化合物的物理和化学吸附层。在等离子体开启时间段期间，通过物理和化学吸附层中的金属原子与氧化剂中的氧原子的化学反应，形成比两个原子层厚的金属氧化物层。

主权项

1.一种形成金属氧化物层的方法，所述方法包括以下步骤：在将有机金属化合物和氧化剂连续地注入到腔室中的同时，重复地引起等离子体关闭时间段和等离子体开启时间段，一个循环包括一个等离子体关闭时间段和一个等离子体开启时间段，其中，在所述等离子体关闭时间段期间，在基底上由具有两个或更多个原子层的所述有机金属化合物形成物理和化学吸附层，并且在所述等离子体开启时间段期间，通过所述物理和化学吸附层中的金属原子与所述氧化剂中的氧原子的化学反应，形成比两个原子层厚的金属氧化物层。