[发明专利]一种晶体硅铸锭坩埚内壁涂层材料在审
| 申请号： | 201810924138.9 | 申请日： | 2018-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN109056059A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 周浪;尹传强;明亮 | 申请（专利权）人： | 周浪 |
| 主分类号： | C30B28/06 | 分类号： | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 南昌朗科知识产权代理事务所(普通合伙) 36134 | 代理人： | 郭毅力 |
| 地址： | 330030 江西省南昌市新建区长*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 一种晶体硅铸锭坩埚内壁涂层材料，所述的涂层材料为中位径粒度0.5~2.0μm、纯度≧99.99%的氧氮化硅粉体。采用该涂层材料代替常规使用的高纯氮化硅粉体制备晶体硅铸锭坩埚内壁涂层，其与坩埚的结合强度提高，不发生剥落；硅锭脱模情况良好，消除粘埚现象；氮溶解也有明显减少。本发明所提出的氧氮化硅涂层材料可以提高晶体硅铸锭生产成材率，降低硅锭生产成本，同时降低硅锭中杂质氮含量，提高硅锭质量；其涂覆工艺可以沿用氮化硅涂层常规工艺，过程简单易行，适合于规模化生产应用。 | ||
| 搜索关键词： | 晶体硅 硅锭 涂层材料 铸锭坩埚 内壁涂层材料 氧氮化硅 氮化硅涂层 高纯氮化硅 规模化生产 常规工艺 粉体制备 内壁涂层 涂覆工艺 成材率 氮溶解 中位径 剥落 粉体 脱模 铸锭 坩埚 生产成本 应用 生产 | ||
【主权项】：
1.一种晶体硅铸锭坩埚内壁涂层材料，其特征是为氧氮化硅粉体。
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