[发明专利]基于III-V族材料发射极区的GeSn光电晶体管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810924656.0 申请日: 2018-08-14
公开(公告)号: CN110828603B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 汪巍;方青;涂芝娟;曾友宏;蔡艳;王庆;王书晓;余明斌 申请(专利权)人: 上海新微技术研发中心有限公司
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/0336;H01L31/18
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤;陈丽丽
地址: 201800 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种基于III‑V族材料发射极区的GeSn光电晶体管及其制造方法。所述基于III‑V族材料发射极区的GeSn光电晶体管,包括衬底以及沿垂直于所述衬底的方向依次层叠于所述衬底表面的集电极区、吸收层、基极区和发射极区;所述吸收层与所述基极区采用Ge1‑xSnx材料构成,其中,0x1;所述发射极区采用III‑V族材料构成;所述III‑V族材料与所述Ge1‑xSnx材料的晶格失配度小于预设值,且所述III‑V族材料的能带带隙大于所述Ge1‑xSnx材料。本发明使得光电晶体管有着大的光电流放大倍数和高的灵敏度,且更容易实现高的光学增益。
搜索关键词: 基于 iii 材料 发射极 gesn 光电晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
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