[发明专利]一种光谱仪系统和光谱分析方法有效
| 申请号： | 201810930403.4 | 申请日： | 2018-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN108956469B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 孟宪芹;王维;谭纪风;陈小川;孟宪东;高健;王方舟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01;G01N21/27 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 解婷婷;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种光谱仪系统和光谱检测分析方法。光谱仪系统包括：采光装置和探测装置，采光装置包括分光结构和滤光结构，采光装置与探测装置之间设置有测试通道；分光结构用于将入射光分光为单色光后出射，照射到滤光结构上；滤光结构用于过滤单色光中的杂散光后出射目标波长范围的单色光，将出射的单色光通过测试通道中的待测物后，照射到探测装置上；探测装置用于接收目标波长范围的单色光与待测物发生反应后的光学信号，该光学信号为用于对待测物进行光谱分析的光学信号。本发明实施例解决了采用传统光谱仪进行分光时存在光谱叠级串色的现象而影响光谱仪检测效果的问题，以及传统光谱仪中存在的偏向角问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱仪 系统 光谱分析 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光谱仪系统，其特征在于，包括：采光装置和探测装置，所述采光装置包括：第一基板、设置于所述第一基板入光侧的分光结构和设置于所述第一基板出光侧的滤光结构，所述探测装置设置于接近所述采光装置中滤光结构的一侧，且所述采光装置与所述探测装置之间设置有测试通道；所述分光结构，用于将入射光分光为单色光后出射，照射到所述滤光结构上；所述滤光结构，用于过滤所述单色光中的杂散光后出射目标波长范围的单色光，将出射的单色光通过所述测试通道中的待测物后，照射到所述探测装置上；所述探测装置，用于接收所述目标波长范围的单色光与所述待测物发生反应后的光学信号，所述光学信号为用于对所述待测物进行光谱分析的光学信号。
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