[发明专利]一种高耐候性的RPD用多元导电氧化物薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及高耐候性的RPD用多元导电氧化物薄膜的制备方法，由添加第三種氧化物元素在氧化铟锌材料中，使用注浆成型加高温烧结的方式来制作相关镀膜材料，提高镀膜材料均匀性以利提高镀膜的均匀性。提高氧化鋅的含量及使用RPD方式来做镀膜可以大幅降低制作成靶材的困难度，且不用做材料与背板邦定的过程，大幅降低镀膜材料的制作成本；且用RPD的方式来制作氧化铟锌透明导电膜层形成非晶或是微细晶结构等高制密的膜层可增加阻水气性，RPD制程也可以减少对原来已镀膜层的损伤，提高不同膜层的贴覆性；由于镀膜阻水气佳、高透光及高导电性可以有效满足太阳能电池、触摸屏、有机发光二极管或是电致变色器件的性能需求。

主权项

1.一种高耐候性的RPD用多元导电氧化物薄膜的制备方法，其特征在于：以下物质的重量用重量份数表示：将100份氧化铟粉末中添加预定比例的氧化锌粉末及第三种氧化物粉末，再加68份氧化锆球、30份的纯水及2份的分散剂，研磨充分混合相关材料，研磨8‑24小时形成浆料，然后将浆料灌入多孔性模具中吸水干燥，将干燥后的混合粉末分散后，放入大气烧结炉中进行混合后烧结，其中烧结温度为1100‑1400℃，烧结3‑24小时形成粗胚体；将上述粗胚体经过粉碎后形成粉末，在粉末中加入68份氧化锆球、30份的纯水及2份的分散剂,研磨充分混合相关材料，研磨8‑72小时形成浆料，然后将浆料灌入直径40mm高度50mm的多孔性模具中，经过24小时的干燥后,脱膜形成多元氧化物混合的低密度胚体，然后经过1000‑1250℃的温度下烧结3‑24小时，形成RPD用镀膜材料胚体，上述RPD用镀膜材料胚体经切割与表面研磨，得到直径30mm高度40mm的镀膜材料块材；将上述镀膜材料块材放入RPD设备的坩埚中，以康宁玻璃为样品基板，以真空抽气系统将蒸镀腔体背景压力抽至0.7×10‑5‑0.9×10‑5 torr后，利用氩气及氧气当作工作气体，流量200‑300sccm，透过节流阀将通入氩气及氧气，控制蒸镀腔体的工作压力为2×10‑3torr，启动电源进行薄膜镀制，制得薄膜厚度90‑110nm的透明导电多元氧化物薄膜。