[发明专利]一种硅基凸面反射镜的制备方法有效
申请号: | 201810936487.2 | 申请日: | 2018-08-16 |
公开(公告)号: | CN109052313B | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 龙永福 | 申请(专利权)人: | 湖南文理学院 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 常德市源友专利代理事务所(特殊普通合伙) 43208 | 代理人: | 江妹 |
地址: | 415000 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅基凸面反射镜的制备方法,该方法是将常规作为电极的薄铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的一个球冠做成阴极,圆形硅片为阳极,球冠形薄铂片的凸面背离着硅片;先采用恒流源对硅片进行电化学腐蚀,在硅片靠近球冠形薄铂片的一侧面上形成剖面为凸形的多孔硅膜;再采用化学腐蚀的方法腐蚀掉多孔硅膜,从而形成硅基凸面反射镜。通过本发明的方法,能获得硅基凸面反射镜,能广泛应用于微光机电系统,为微光机电系统领域作出了重大的贡献。 | ||
搜索关键词: | 一种 凸面 反射 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种硅基凸面反射镜的制备方法,其特征在于,该方法是将常规作为电极的薄铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的一个球冠做成阴极,圆形硅片为阳极,球冠形薄铂片的凸面背离着硅片;硅片和球冠形薄铂片底平行放置,且硅片中心轴线、球冠形薄铂片的圆心与球冠形薄铂片的中心轴线三者重合;先采用恒流源对硅片进行电化学腐蚀,在硅片靠近球冠形薄铂片的一侧面上形成剖面为凸形的多孔硅膜;再采用化学腐蚀的方法腐蚀掉多孔硅膜,从而形成硅基凸面反射镜。
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