[发明专利]低温红釉及其制备方法有效
| 申请号： | 201810938050.2 | 申请日： | 2018-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN108840566B | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 童新田;张支清 | 申请（专利权）人： | 湖南德兴瓷业有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/00 | 分类号： | C03C8/00;C03C1/04;C04B41/86 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 何耀煌 |
| 地址： | 412200 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低温红釉及其制备方法，低温红釉所使用的釉料含有的组分及各组分质量百分比如下：二氧化硅65％，三氧化二铝20％，三氧化二铁0.05％，氧化钾2.8％，氧化钠2.3％，氧化镁0.14％，氧化钙0.3％，硒6％，氧化钛0.01％，其余为不可避免的杂质，总计100％。本发明可以大大降低釉的膨胀系数，从而使釉与坯的膨胀系数相匹配，防止出现剥釉的现象。 | ||
| 搜索关键词： | 低温 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种低温红釉，其特征在于：它所使用的釉料含有的组分及各组分质量百分比如下：二氧化硅65％，三氧化二铝20％，三氧化二铁0.05％，氧化钾2.8％，氧化钠2.3％，氧化镁0.14％，氧化钙0.3％，硒6％，氧化钛0.01％，其余为不可避免的杂质，总计100％。
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