[发明专利]场效应晶体管、显示元件、图像显示装置、和系统有效
申请号: | 201810939209.2 | 申请日: | 2013-11-27 |
公开(公告)号: | CN108807427B | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 曾根雄司;植田尚之;中村有希;高田美树子;松本真二;早乙女辽一;新江定宪;安部由希子 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 宋莉;肖靖泉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供场效应晶体管、显示元件、图像显示装置、和系统。所述场效应晶体管包含:基底;保护层;在基底和保护层之间形成的栅绝缘层;与栅绝缘层接触形成的源电极和漏电极;至少在源电极和漏电极之间形成的且与栅绝缘层、源电极和漏电极接触的半导体层;以及栅电极,所述栅电极在与其中设置半导体层的侧相反的侧上形成,其中栅绝缘层在栅电极和半导体层之间,且所述栅电极与栅绝缘层接触,其中保护层包含金属氧化物复合物,所述金属氧化物复合物至少包含Si和碱土金属。 | ||
搜索关键词: | 场效应 晶体管 显示 元件 图像 显示装置 系统 | ||
【主权项】:
1.场效应晶体管,包括:基底;保护层;在所述基底和所述保护层之间形成的栅绝缘层;与所述栅绝缘层接触形成的源电极和漏电极;半导体层,其至少在所述源电极和所述漏电极之间形成,且与所述栅绝缘层、所述源电极和所述漏电极接触;和栅电极,所述栅电极在与其中设置所述半导体层的侧相反的侧上形成,其中所述栅绝缘层在所述栅电极和所述半导体层之间,且所述栅电极与所述栅绝缘层接触,其中所述保护层包含金属氧化物复合物,所述金属氧化物复合物至少包含Si和碱土金属。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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