[发明专利]场效应晶体管、显示元件、图像显示装置、和系统有效

专利信息
申请号: 201810939209.2 申请日: 2013-11-27
公开(公告)号: CN108807427B 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 曾根雄司;植田尚之;中村有希;高田美树子;松本真二;早乙女辽一;新江定宪;安部由希子 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/786
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 宋莉;肖靖泉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供场效应晶体管、显示元件、图像显示装置、和系统。所述场效应晶体管包含:基底;保护层;在基底和保护层之间形成的栅绝缘层;与栅绝缘层接触形成的源电极和漏电极;至少在源电极和漏电极之间形成的且与栅绝缘层、源电极和漏电极接触的半导体层;以及栅电极,所述栅电极在与其中设置半导体层的侧相反的侧上形成,其中栅绝缘层在栅电极和半导体层之间,且所述栅电极与栅绝缘层接触,其中保护层包含金属氧化物复合物,所述金属氧化物复合物至少包含Si和碱土金属。
搜索关键词: 场效应 晶体管 显示 元件 图像 显示装置 系统
【主权项】:
1.场效应晶体管,包括:基底;保护层;在所述基底和所述保护层之间形成的栅绝缘层;与所述栅绝缘层接触形成的源电极和漏电极;半导体层,其至少在所述源电极和所述漏电极之间形成,且与所述栅绝缘层、所述源电极和所述漏电极接触;和栅电极,所述栅电极在与其中设置所述半导体层的侧相反的侧上形成,其中所述栅绝缘层在所述栅电极和所述半导体层之间,且所述栅电极与所述栅绝缘层接触,其中所述保护层包含金属氧化物复合物,所述金属氧化物复合物至少包含Si和碱土金属。
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