[发明专利]一种沉积岩Os初始值的分析方法有效

专利信息
申请号: 201810940131.6 申请日: 2018-08-17
公开(公告)号: CN109060859B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 赵鸿;屈文俊;赵九江;李超;周利敏;李欣尉 申请(专利权)人: 国家地质实验测试中心
主分类号: G01N23/2251 分类号: G01N23/2251;G01N27/62
代理公司: 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 代理人: 胡时冶;马东伟
地址: 100037 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种沉积岩Os初始值的分析方法,属于同位素地球化学分析技术领域,解决了现有技术中获取沉积岩Os初始值耗时久、成功率低、分析测试成本高的问题。该分析方法,包括以下步骤:沉积岩样品采集;制作岩石薄片;在岩石薄片上建立直角坐标系,在扫描电子显微镜的背散射图像下确定分析目标所处象限和直角坐标,对岩石薄片分析目标定位;根据直角坐标系、分析目标所处象限和分析目标的直角坐标在LA‑MC‑ICP‑MS光学镜头下再次确定分析目标的位置,进行LA‑MC‑ICP‑MS激光原位剥蚀自生黄铁矿Os同位素测试,测得M/Z185、M/Z187、M/Z188信号数据;对所述信号数据进行处理,得到沉积岩Os初始值。利用该方法能够直接、快速地获得沉积岩中的Os初始值。
搜索关键词: 一种 沉积岩 os 初始值 分析 方法
【主权项】:
1.一种沉积岩Os初始值的分析方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一,沉积岩样品采集;步骤二,制作岩石薄片;步骤三,在所述岩石薄片上建立直角坐标系,在扫描电子显微镜的背散射图像下确定分析目标所处象限和直角坐标,对岩石薄片分析目标定位;步骤四,根据所述直角坐标系、分析目标所处象限和分析目标的直角坐标在LA‑MC‑ICP‑MS光学镜头下再次确定分析目标的位置,进行LA‑MC‑ICP‑MS激光原位剥蚀自生黄铁矿Os同位素测试,测得M/Z185、M/Z187、M/Z188信号数据;步骤五,对所述信号数据进行处理,得到沉积岩Os初始值。
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