[发明专利]垂直金字塔结构LED及其制备方法有效
申请号: | 201810940241.2 | 申请日: | 2018-08-17 |
公开(公告)号: | CN109166948B | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 王军喜;张翔;魏同波;李晋闽 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/02;H01L33/14 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘歌 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种垂直金字塔结构LED及其制备方法,属于半导体技术领域。该垂直金字塔结构LED包括:衬底和外延层,所述外延层位于所述衬底之上,其中,外延层包括介质层和金字塔结构,所述介质层沉积在衬底上,具有开设至衬底的周期性孔洞结构的图形化掩膜;所述金字塔结构为填满所述孔洞结构并继续生长形成金字塔式结构。本发明直接在新型衬底上开孔选区外延生长GaN基垂直金字塔LED,不需要生长氮化物薄膜层、不需要衬底剥离、发光层转移、二次键和的简单垂直金字塔结构技术路线,将大幅提高生产效率,降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 垂直 金字塔结构 led 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种垂直金字塔结构LED,其特征在于,包括:衬底(1)和外延层,所述外延层位于所述衬底(1)之上,其中,所述外延层包括介质层(2)和金字塔结构(3),所述介质层沉积在衬底(1)上,具有开设至衬底的周期性孔洞结构的图形化掩膜;所述金字塔结构(3)为填满所述孔洞结构并继续生长形成金字塔式的结构。
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