[发明专利]基于K边缘成像的优化阈值方法、装置、设备和介质有效
| 申请号： | 201810942770.6 | 申请日： | 2018-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN110836901B | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 邢宇翔;黄凯鑫;张丽;沈乐;邓智;陈志强;刘以农 | 申请（专利权）人： | 同方威视技术股份有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | G01N23/046 | 分类号： | G01N23/046 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 段月欣 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种基于K边缘成像的优化阈值方法、装置、设备和介质。该方法包括：光子计数探测器根据预设阈值组预扫描待探测物体，得到第一探测数据；依据第一探测数据，确定每条射线中基函数组合的分解系数的线积分值，每条射线均是固定的基函数组合；在每条射线中基函数组合的分解系数的线积分值中，筛选出基函数组合的造影剂材料基函数的线积分值大于预设线积分阈值的射线；将筛选得到的每条射线对应的探测数据输入预训练神经网络模型中，得到筛选得到的每条射线的局部最优化阈值组；依据局部最优化阈值组，确定光子计数探测器的K边缘成像的整体最优化阈值组。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 边缘 成像 优化 阈值 方法 装置 设备 介质 | ||
【主权项】：
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