[发明专利]一种基于TOC理论的OEE改善方法在审

专利信息
申请号: 201810946699.9 申请日: 2018-08-17
公开(公告)号: CN109146286A 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: 张志胜;柏正权;魏秋雨;戴敏 申请(专利权)人: 江苏南高智能装备创新中心有限公司
主分类号: G06Q10/06 分类号: G06Q10/06;G06Q10/04;G06Q50/04
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210000 江苏省南京市江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种基于TOC理论的OEE改善方法,通过计算结果形成清晰直观的OEE报表,并且分析造成OEE损失的影响因素。具体的使用了TOC基本理论和其实践方法,建立适用于半导体封装测试流程的OEE改善模型,识别生产过程中影响OEE水平提升的瓶颈设备,计算相应的缓冲量,进而完成对OEE的分析与改善。与现有技术相比,该方法提供了一种切实可行的OEE全面改善方案,使得瓶颈设备的OEE水平有了显著上升,综合效率得到了改善。并且由于瓶颈的优化,大部分设备的OEE水平得到了一定的提升,系统整体的生产效率得到了改善。
搜索关键词: 瓶颈设备 半导体封装测试 全面改善 生产过程 生产效率 水平提升 系统整体 影响因素 综合效率 缓冲量 直观 分析 瓶颈 清晰 优化
【主权项】:
1.一种基于TOC理论的OEE改善方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)建立OEE计算模型:OEE=时间开动率×性能开动率×合格品率;(2)采集获取OEE计算模型中各项参数;(3)根据OEE计算模型和分析技术,生成设备效率情况的报表;(4)分析报表,得出OEE损失的具体原因;(5)构建瓶颈设备识别,找到生产系统中最薄弱环节;(6)建立时间缓冲模型并计算时间缓冲;(7)根据以上步骤建立OEE改善系统,并采用OEE改善系统对生产过程的OEE进行改善。
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